Gas láser

O gas láser úsase principalmente para o recocido láser e o gas de litografía na industria electrónica. Beneficiándose da innovación das pantallas de teléfonos móbiles e da expansión das áreas de aplicación, a escala do mercado de polisilicio de baixa temperatura ampliarase aínda máis e o proceso de recocido con láser mellorou significativamente o rendemento dos TFT. Entre os gases de neón, flúor e argón utilizados no láser excimer ArF para a fabricación de semicondutores, o neón representa máis do 96% da mestura de gases láser. Co perfeccionamento da tecnoloxía de semicondutores, o uso de láseres excimer aumentou e a introdución da tecnoloxía de dobre exposición levou a un forte aumento da demanda de gas neon consumido polos láseres excimer ArF. Beneficiándose da promoción da localización de gases especiais electrónicos, os fabricantes nacionais terán un mellor espazo de crecemento do mercado no futuro.

A máquina de litografía é o equipo principal da fabricación de semicondutores. A litografía define o tamaño dos transistores. O desenvolvemento coordinado da cadea da industria da litografía é a clave para o avance da máquina de litografía. Os materiais semicondutores coincidentes, como o revestimento fotográfico, o gas fotolitográfico, a máscara fotográfica e os equipos de revestimento e desenvolvemento teñen un alto contido tecnolóxico. O gas de litografía é o gas que a máquina de litografía xera láser ultravioleta profundo. Diferentes gases de litografía poden producir fontes de luz de diferentes lonxitudes de onda, e a súa lonxitude de onda afecta directamente a resolución da máquina de litografía, que é un dos núcleos da máquina de litografía. En 2020, as vendas globais totais de máquinas de litografía serán de 413 unidades, das cales as vendas de ASML 258 unidades representaron o 62%, as vendas de Canon 122 unidades representaron o 30% e as vendas de Nikon 33 unidades representaron o 8%.